ځانګړي الیاژ
موږ کولی شو ډیری ډوله ځانګړي الیاژ چمتو کړو، لکه د تانتالم ټنګسټن الیاژ (TaW10، Ta2.5W)، مولیبډینم نیبیم الیاژ (MoNb10)، niobium zirconium alloy (NbZr10)، niobium hafnium alloy (NbHf10).
pages 
TaW10 هدف
TaW10 هدف عمومي معلومات د توکي نوم: tantalum tungsten alloy taw10 هدف مواد:TaW10 کثافت: 17g/cm 3 ملکیتونه: د لوړ خټکي نقطې سره، د ښه کنډک مقاومت، ویلډ وړتیا، ښه نرموالی، او داسې نور. غوښتنلیک: دا د لوړ حرارت، لوړ فشار لپاره مناسب دی , ژونکي ...
نور یی ولولهTaw10 ویفر شیټونه
taw10 wafer sheets تفصيلات د taw10 wafer sheets جوړښت: Ta 90%, W10% معیاري: ASTM B708 کثافت: 17g/cm3 سطحه: د ځمکې سطحې ملکیتونه: ټینټالم مصر د لوړ کثافت سره ، د لوړ خټکي نقطه ، د زنګ وهلو مقاومت ، لوړ ځواک ، ښه ځواک , weldability او ټیټ ...
نور یی ولولهTantalum Sputtering هدف
د tantalum sputtering هدف توضیحات د tantalum sputtering هدف درجه: R05255 معیاري: ASTM B708 مواد: tantalum alloy، 90% tantalum 10% tungsten خټکي میتودونه: د الکترون بیم فرنس خټکي ځانګړتیاوې: د دې په پرتله لوړ ځواک سره د خالص اپلیکیشن محصولات د ډیلټینټ بشپړ حالت دی. په عمده توګه کارول کیږي ...
نور یی ولولهد تانتالم بلاک
د TaW10 بلاک جزیات د taw10 بلاک درجې: R05255 کثافت: 17g/cm 3 مواد: ټینټالم مصر، 90٪ ټینټالم 10٪ ټنګسټن د خټکي میتودونه: د الکترون بیم خټکي ځانګړتیاوې خورا ښه کیمیاوي ځانګړتیاوې خورا لوړ د ککړتیا مقاومت موږ په ډیری برخو کې کارول شوي په عمده توګه کارول شوي. په...
نور یی ولولهTa2.5w روډونه
تانتالم د لوړ چلښت، لوړ حرارتي ثبات او د بهرنیو اتومونو د بندیدو سره، نو د ټنټلم فلم د ګالوانیک کوټینګ میتود په واسطه په مدغم سرکټ کې پلی کیږي ترڅو د مسو په اساس سیلیکون کې د توزیع مخه ونیسي، ښه داخلي جوړښت، یونیفورم کرسټال جوړښت، جوړښت او انرژي ویش
نور یی ولولهTa2.5w بارونه
ta2.5w شیټونه د ta2.5w الماس مواد فزیکي او کیمیاوي ملکیتونه: W٪ 2~ 3٪، Nb0.5٪، tantalum متوازن کثافت: 16.7g/cm3 د خټکي نقطه: 3005℃ خراب لیږد تودوخه: د -250 °C څخه ټیټ د ta2.5w کیمیاوي مقاومت مقاومت: د خالص ټینټالم سره نږدې ورته، په ځینو مواردو کې، په پرتله ښه ...
نور یی ولوله23
